#光刻机技术#

麻省理工科技评论　783天前　北京

【助力突破中国#光刻机技术# 瓶颈，#港城大# 团队研发真空紫外非线性超构透镜，可将394纳米紫外光转为197纳米真空紫外光】 解决国内光刻机的技术瓶颈，是#香港城市大学# 电机工程系教授蔡定平团队近期一项工作的研究初衷。其研发出一款新型真空紫外光超构透镜，可用于半导体制作、光化学、材料科学等 ...全文

黑科技解密　15天前　北京

工信部推动国产氟化氩光刻机发展，中国芯片“智”造正迅速崛起！#中国芯片# #光刻机技术# #中国# 黑科技解密的🎞︎微博视频

仇雨匆HD　69天前　上饶

#光刻机技术# 将排列好图案，透过晶源缩小反射成激光镭射，图案镭射激光灯灼伤有光刻胶的钢化玻璃形成一级代码源图案。每个芯片只需照射一次。目前最好的激光晶源是被中国技术封锁的项目之一。中国 上饶·横峰