台名嘴:大陆对光刻机攻坚力度很强
阅读 468442 话题 2010
..+何院士变脸挺快吧,犹忆他信誓旦旦地认为中国搞不出光刻机的言论。这才几年,我感觉还不到两年吧,他就得把自己的话吃下去。#国产光刻机出世# #从怀疑到突破:5年内中国光刻机的逆袭之路 ##"何院士的逆转:从质疑到认可" 时光荏苒,5年前的今天,著名物理学家何院士对中国半导体行业的未来发展表示了严重的担忧。他公开表示:"中国搞不出光刻机,这是一个技术壁垒,我们短期内是突破不了的。"这番言论引发了业界的广泛关注和热议。 然而就在去年,上海微电子装备有限公司成功研制出了国内首台自主知识产权的DUV光刻机,打破了国外企业的技术垄断,中国成为了全球唯一能够独立生产纯国产DUV光刻机的国家。这一令人振奋的消息,不禁让人想起了何院士当年的质疑之语。 ##"国产光刻机:技术上的新起点" 据了解,这台国产DUV光刻机采用了自主研发的核心技术,包括光学设计、精密机械、电子控制等关键部件,整机性能已经达到了国际先进水平。相比进口机型,它不仅价格更加优惠,而且在可靠性、稳定性等方面也有明显的优势。 更令人振奋的是,这台光刻机即将进入批量生产阶段,未来将大批量应用于国内半导体制造企业。这无疑为中国半导体产业的自主可控注入了新的动力,标志着我国在这一关键核心技术领域取得了重大突破。 ##"直面差距:我们的努力还在继续" 尽管取得了如此骄人的成就,但业内人士也坦言,与全球领先水平相比,国产DUV光刻机在一些关键性能指标上仍有一定差距。比如光学分辨率、对准精度、稳定性等方面,与国外同类产品相比还有待进一步提升。 "这只是我们前进道路上的一个重要里程碑,后续还有很长的路要走。"上海微电子装备有限公司的技术负责人表示,"我们必须保持清醒的认识,继续加大研发投入,持续优化产品性能,努力缩小与世界先进水平的差距。" ##"未来展望:科技自信的脚步" 毋庸置疑,国产DUV光刻机的成功研制,标志着中国在半导体核心装备制造领域迈出了坚实的一步。这不仅彰显了我国科技工作者的创新能力,也充分展现了中国制造业的实力。 展望未来,业内人士认为,只有保持持续的创新动力,不断优化产品性能,中国才能在半导体产业链上占据更为有利的地位。同时,他们也呼吁政府进一步加大对核心技术攻关的支持力度,为国产半导体装备的发展创造更加有利的环境。 当年何院士的质疑,如今已经变成了对中国科技自主创新能力的肯定。我们相信,在全体科技工作者的不懈努力下,中国必将在半导体等关键领域实现更大的突破,以科技自信书写民族复兴的时代华章。
中国到底能不能制造出,极紫外光光刻机,一朝突破技术壁垒
..+中国研发光刻机,还需要向谁申报吗? 在科技自立自强的征途中,中国光刻机的研发犹如一颗璀璨的星辰,照亮了自主创新的夜空。面对外界的种种挑战,中国科研人员以坚韧不拔的精神,不断攀登科技高峰。然而,正当我们奋力前行时,美国与荷兰却如同两个拦路虎,频频使出“流氓”手段,企图遏制我们的进步。 他们先是加强出口管制,试图将我们隔绝于先进科技之外;接着又威胁停止售后维修和零配件供应,企图让我们在技术上陷入孤立无援的境地。但中国从未向这些霸权低头,我们深知,自主研发才是唯一的出路。 如今,当我们手握国产光刻机的辉煌成果,再次被问及是否需要向谁申报时,我们可以自豪地回答:中国自主研发光刻机,无需向任何人报备,更无需畏惧任何“流氓”行径。因为在这片科技的热土上,中国已经拥有了足够的底气和实力,去开创属于自己的未来。
..+中国自主研制光刻机再度突破,可以生产28nm的芯片了。28纳米对于,普通的汽车车载芯片,电视等一些普通电子设备足够了。以前经常说咱们芯片被卡脖子,技术不如别人,芯片要进口。一直说国外生产高端芯片机器的只有荷兰一家公司,技术要求特别高,并且是全球几十个国家共同研制的。没想到现在咱们也研制成功了。西方动不动用断供芯片来吓唬我们的时代即将过去。期待进一步听到咱们在更高端精度芯片来好消息。
国产光刻机问世了,究竟意味着什么?美国还能对中国卡脖子吗
..+#国产光刻机何时能打破国外垄断局面#没有时说没有一个国家可以独立做出光刻机,做出来又说二十年前的东西,赶上了又来另一套话语,洗吧,任你怎洗你都是个坏东西[偷笑][偷笑][偷笑][我想静静][我想静静][我想静静][笑哭][笑哭]
..+俗话说,万事开头难,本事件说明中国已经冲破了光刻机的最大困难,中国胜利在望!
“自主光刻机震撼全球!龙哥8纳米突破,打破美荷垄断,西方慌了
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国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?
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