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媒体:别误读“氟化氩光刻机”

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  • 国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

    文 | 孙永杰日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注。

    钛媒体APP 92627 阅读 1157 评论 2024-09-18 11:47

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